“社长，BSEC今晚发布了一则重要公告，内容是:BSEC光刻机研究院经过二年多时间的研究，在65nm制程浸润式光刻机2230i的基础上，研发成功全球第一款45nm制程浸润式光刻机3360i，已经通过国家光刻机专家组
鉴定，并向中国专利局和世界专利局同时申请公司发明专利，计划7月下旬量产。PGCA半导体公司已经预定一条45nm制程半导体生产线。”
6月8日，周四晚上，尼康公司常务副总裁原田弘树打电话给社长兼CEO森佳照明，大家最担心的事情还是发生了。
近一周过去，应邀参观DSP-100干式光刻机的晶圆大厂的代表没有任何预定的消息，PGCA和TTFAB可以理解，但Intel、AMD、台积电、三星和联电等方面也没有预定产品的意向，亲自负责DSP-100干式光刻机预定的常务
副总裁原田弘树预感不妙，一直关注BSEC、AMD和ASML的新闻。
“副总，3360i的销售价格是多少?”
森佳照明也知道，BSEC、GCA和ASML迟早会研发成功45nm制程的浸润式光刻机，但没有料到BSEC这么快，3360一旦面世，要是价格低于DSP-100，DSP-100就没有任何竞争优势了。
“社长，我打电话询问了中村太郎先生，预订价2000万美元一台。”
原田弘树知道DSP-100在国际上没有市场了，好在尔必达合资公司预定了20台DSP-100和40台NSR-S308F，尼康公司研发NSR-S308F和DSP-100的经费赚回来了。
“林工，ASML的2800i什么时候能够研发成功?”
张仲谋也在第一时间从林本坚的电话里知道3360i面世的消息，DSP-100刚面世一周，3360i就研发成功，甚至怀疑BSEC早已研发成功3360i。
台积电5月初拿到了预定的20台1400i浸没式光刻机，如今还在设备调试阶段，计划下周开始试生产。
全球已经有7条65制程的半导体生产线量产，高端市场份额已经被瓜分一空，昔日的晶圆生产老二台积电已经掉队了，台积电上下焦急万分;75岁的张仲谋忧心忡忡，夜不能寐，寄希望于ASML早日研发成功45nm制程浸没
式光刻机。
副总经理刘德银应邀参观了尼康公司的DSP-100干式光刻机，台积电没有预定的计划。
DSP-100干式光刻机除了在制程工艺上领先外，但在如今65nm?程晶圆生产线几乎使用浸润式光刻机的大环境下，DSP-100干式光刻机就是劣势之一，在双工作台系统和价格上也没有竞争优势。
从浸润式光刻机换成干式光刻机，需要在光刻胶类型及涂布方式、光学系统调整、设备配套设施、工艺参数优化、成本投入变化等方面调整，工程师们需要很长的时间才能适应。
浸没式与干式光刻机的双工作台系统虽然在核心架构上存在部分兼容性，但受制于技术特性差异，为65nm制程浸润光刻机升级的双工作台系统，NSR-5308F干式光刻机无法通用，不得不继续使用为90nm制程光刻机配套
的双工作台系统，生产效率比65nm制程浸润光刻机低一半左右，这是DSP-100干式光刻机的第二大劣势，短时间内很难解决。
行业内都知道，BSEC没有同意为NSR-S308F和DSP-100干式光刻机专门升级双工作台系统，尼康公司也不能自行升级。
DSP-100干式光刻机报价3500万美元，台积电认为价格过高。
台积电是ASML的第四大股东和长期合作伙伴，65nm制程采购ASML浸润式光刻机14001，45nm制程也会采购ASML浸润式光刻机2800，这次不会被BSEC的纯净水介质核心技术专利卡住了。
今年2月，ASML付出每台浸润式光刻机售价1%的价格，拿到BSEC授予的纯净水介质核心专利技术的许可合约。