尼康公司管理层、技术团队和普通员工喜笑颜开，干劲十足。
日本半导体行业欢欣鼓舞，决定联合投资2350亿日元20亿美元，在东京都千代田区建设全球第一条45nm制程工艺的半导体生产线。
“孙先生，BSEC什么时候能研发成功45nm制程的浸没式光刻机?”
6月5日，阿密特从日本打来电话，接到尼康公司的邀请，他代表Intel前往尼康公司查看DSP-100干式光刻机的性能，尼康公司希望Intel提前预定DSP-100，价格可以优惠。
在1994年GCA重回光刻机老大之前，Intel一直是尼康公司的最大客户。
Intel正在研发第一款四核处理器Core2Quad，即将开启四核时代的大门，这款CPU拥有582，000，000个晶体管，运行速度为3。4GHz，最大存储容量为32TB，采用45nm制程工艺。
阿尔特曼代表AMD公司也出现在尼康公司。
AMD如今正在研发第一款四核处理器速龙IIX4641，采用K10。5架构，这款CPU拥有624，000，000个晶体管，运行速度为3。4GHz，二级缓存4M，最大存储容量为32TB，采用45nm制程工艺。
AMD希望抢在Intel的前面开启四核时代。
两人参观完后，犹豫不决，约在一起，由阿密特给孙健打电话。
阿尔特曼和阿密特都兼任GCA的董事，虽然Intel和AMD是竞争对手，但两人的私人关系不错。
GCA、Intel和AMD既是Sematech会员，还是GCAEUV光刻机股份公司的重要股东。
要是GCA的光刻机和Nikon的光刻机制程一样，价格差不多，Intel和AMD都会购买GCA的。
由于BSEC拒绝给尼康的65nm制程工艺干式光刻机NSR-S308F专门升级双工作台系统，NSR-S308F装配的还是90nm制程光刻机的双工作台系统，工作效率比TWINSCANNXT:2230低15%左右，加上价格贵45%，NSR-
S308F除了SELETE购买了3台，没有听说其他晶圆厂购买。
DSP-100也没有升级双工作台系统，这是一个重大劣势;预定价格3500万美元，比之前购买的TWINSCANNXT:2230贵了2000万美元，这可以理解。
干式光刻机和浸润式光刻机各有优缺点。
干式工艺需要CVD沉积、干显影、干蚀刻等多环节，设备占地面积为浸润式的5倍以上，综合成本约为浸润式的3倍。但干式工艺材料消耗仅为浸润式的15-110，每片晶圆能耗降低50%，长期看可减少光刻胶用量30%以
上，减低供应链风险。
但晶圆厂从浸润式光刻机换成干式光刻机，需要在光刻胶类型及涂布方式、光学系统调整、设备配套设施、工艺参数优化、成本投入变化等方面调整，工程师们需要很长的时间才能适应。
预定45nm制程的光刻机到45nm制程工艺的半导体生产线量产，一般建设周期需要一年左右。
哪家先预定DSP-100，哪家就能先拿到!